Die FOUP-Verfolgung in der Halbleiterfertigung ist wichtig für den Kontaminationsschutz, die Prozessoptimierung, einen höheren Ertrag, die Qualitätssicherung und für Compliance. Sie gewährleistet den Schutz der Wafer, optimiert den Arbeitsablauf, steigert den Ertrag und sorgt für gleichbleibend hohe Qualität.
Anwendung: FOUP-Rückverfolgbarkeit
Die effiziente FOUP-Verfolgung in der Halbleiterfertigung kann eine Herausforderung darstellen, denn die Kontrolle zahlreicher FOUPs, der Umgang mit großen Datenmengen, die Integration in existierende Systeme, die Absicherung der Automatisierungsgenauigkeit, die Berücksichtigung von Umgebungsfaktoren und die Einhaltung von Industrienormen bilden zusammen einen komplexen Handlungsrahmen.
Unsere Lösung: RFID für die Rückverfolgbarkeit des gesamten Prozesses
Die RFID-Technik von OMRON bietet spezialisierte Eigenschaften für Halbleiteranwendungen wie Chemikalienbeständigkeit, (Lese- und Schreib-)Kompatibilität mit genormten Glastranspondern von Texas Instruments und Unterstützung des SECS I/II-Protokolls.
Diese fortschrittliche Lösung unterstützt fünf SEMI-Standards und SECS/GEM, sodass die einheitliche Handhabung von FOUPs und Pods in der Halbleiterfertigung gewährleistet ist. Die Technologie ist komplett auf SEMI abgestimmt und sorgt für einen besseren Schutz der Wafer, einen optimierten Arbeitsablauf, einen höheren Ertrag und bessere Qualität.
Technologische Voraussetzungen
V640 SEMI
Halbleiteranwendungen erfordern besondere Eigenschaften hinsichtlich ihrer Chemikalienbeständigkeit und Einhaltung von Protokollen für Identifikationssysteme. Das V640 von OMRON erfüllt beide Anforderungen und ermöglicht z. B. auch die Kommunikation mit genormten Glastranspondern von Texas Instruments und dem SECS I/II-Protokoll.
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Identifikationssysteme müssen sich in der Halbleiterfertigung besonderen Anforderungen an die Chemikalienbeständigkeit und die verwendeten Protokolle stellen. V640 von Omron ist zur Kommunikation mit den Standard-Glastranspondern von Texas Instruments wie auch zur Verwendung des SECS I/II-Protokoll fähig.
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